
脈沖激光沉積(Pulsedlaserdeposition,PLD),就是將激光聚焦于靶材上一個較小的面積,利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發甚至電離,使其能夠脫離靶材而向基底運動,進而在基底上沉積,從而形成薄膜的一種方式。在眾多的薄膜制備方法中,脈沖激光沉積技術的應用較為廣泛,可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜,甚至還用來制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方...
脈沖激光沉積(Pulsedlaserdeposition,PLD),...
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