為客戶提供準分子激光系統解決方案
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系統概述準分子激光退火系統采用準分子激光作為光源,經過勻光、整形后獲得極均勻的高能量密度線型激光束,可實現大面積樣品均勻掃描。準分子激光退火系統輸出波長短,光子能量大,樣品吸收深度小,主要用于薄膜材料的退火或改性研究,如低溫多晶硅薄膜退火、光電功能薄膜材料開發等。系統特點線掃描光束,可實現大面積樣品均勻處理采用多級透鏡整列勻光技術,光束均勻性好激光波長可選擇308nm、248nm,351nm、193nm可定制線光束尺...
系統概述準分子激光退火系統采用準分子激光作為...
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